文章摘要
胡强林,周身林,余晓光,罗小兵.超强脉冲激光在密度递增等离子体中自聚焦的PIC模拟[J].井冈山大学自然版,2016,(3):20-24
超强脉冲激光在密度递增等离子体中自聚焦的PIC模拟
THE PIC SIMULATION OF THE SELF-FOCUSING OF ULTRA-INTENSE PULSE LASER IN PLASMA WITH RAMPED DENSITY PROFILE
投稿时间:2015-12-16  修订日期:2016-01-15
DOI:10.3969/j.issn.1674-8085.2016.03.005
中文关键词: PIC粒子模拟  等离子体  超强激光脉冲  自聚焦
英文关键词: PIC simulation  plasma  ultra-intense laser pulse  self-focusing
基金项目:国家自然科学基金项目(51461020,11064005);江西省原子与分子物理重点学科项目(2011-2015)
作者单位E-mail
胡强林 井冈山大学数理学院, 江西, 吉安 343009 qlhu@jgsu.edu.cn 
周身林 井冈山大学数理学院, 江西, 吉安 343009  
余晓光 井冈山大学数理学院, 江西, 吉安 343009  
罗小兵 井冈山大学数理学院, 江西, 吉安 343009  
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中文摘要:
      采用Epoch代码模拟研究了强度达到1022 Wcm-2的激光脉冲,在密度递增等离子体中的自聚焦过程。模拟结果表明,在此过程中,脉冲先经历成丝过程,然后光丝快速汇聚,形成聚焦;在聚焦过程中,可产生超陡脉冲激光,脉冲峰值强度与初始脉冲峰值强度相比可提高近20倍,达到1023 Wcm-2量级。
英文摘要:
      The self-focusing process of ultra-intense pulse, peak intensity up to 1022 Wcm-2, in plasma with ramped density profile is simulated using Epoch code. The simulation results shows that in the process, the pulse experiences a filamentation instability process first, and then the filament gathered quickly and forming the focus. In this process, a super steep pulse is formed, and the peak intensity enhanced almost 20 times higher than the peak intensity of the initial pulse, and reach to the order of 1023 Wcm-2.
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